중국, 자체 이머전 DUV 노광장비 양산 시작... ASML 독점에 균열

요약

중국 국영 기업인 Yuliangsheng이 화웨이 출신 엔지니어들을 주축으로 자체 침지형(Immersion) DUV 리소그래피 장비 양산을 시작했다. 이 장비는 단일 노광 시 28nm, 다중 패터닝 기술을 활용하면 7nm 및 5nm 공정까지 지원하며, 올해 SMIC, Hua Hong, CXMT 등에 공급될 예정이다. 기존에는 네덜란드 ASML이 독점하던 핵심 장비 시장에 중국산 대안이 등장함에 따라 미국의 대중국 반도체 규제 실효성에 큰 변화가 예상된다. 현재 중국 장비의 생산량은 2026년 5대, 2027년 20대 규모로 ASML 대비 초기 단계이며 성능은 10~15년 전 수준이나, 화웨이 Ascend AI 칩을 위한 7nm 공정 자립에는 충분하다는 평가다. 이로 인해 ASML의 주가가 6~8% 하락하는 등 시장이 민감하게 반응하고 있으며, 중국은 이를 통해 미국의 장비 유지보수 제재 리스크를 회피하고 자체 공급망을 구축할 것으로 보인다.

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